マイクロレンズは、ファイバからの出射光をコリメートする事も、ファイバへカップリングする事もできます。コリメータのNA値は最大のカップリング効率が得られるよう最適化され、レンズ形状もパフォーマンスが最大となるようなものを選ぶことができます。イエナオプティックOS社は、お客様のご要求に合わせて、マイクロレンズの設計・製造をいたします。

ガウシアン強度分布は、明確かつ連続的で、なめらかなエッジを示すため、オーバーラップ・レーザ加工に適しています。エキシマレーザや窒素レーザ，半導体レーザなどの高出力レーザの強度分布は、ガウシアンでない上、不安定でレーザの状態によって変化します。イエナオプティックOS社の回折型ガウシアン・ジェネレータは、ガウシアンでないレーザ光を、ガウシアンのファーフィールドをもつレーザ光へ変換します。集光レンズで焦点面に集光したガウシアン光のスポット径は、「ガウシアン・ダイバージェンス×レンズの焦点距離」で求められます。

イエナオプティックOS社のデジタルNDフィルタは、融解石英基板内にランダムに分布した金属の吸収マイクロストラクチャで構成され、高精度で透過率を制御することができます。マイクロストラクチャの濃度とサイズは、アプリケーションに必要とされる透過率に正確に合う用にカスタマイズする事が可能です。ご要望のデジタルNDフィルタを短納期でお届けいたします。

解像度を高めた映像投影システムや測定技術，物質加工などのアプリケーションには、偏光方位が決まった照明が必要です。イエナオプティックOS社の回折型ポラライザは、高効率・高偏光コントラストが得られるよう、特別に設計されたナノ構造を用いています。その回折原理と小型であることから、センサシステムへの組み込みや、他のマイクロオプティクスとの組み合わせが可能です。

マスク投影システムで高分解能を得るためには、多極瞳孔照明パターンが必要です。イエナオプティックLOS社の回折光学素子（DOE）は、高精度で均一なパターンを効率よく生成します。イエナオプティックOS社製DOEには、高品質な材料が使われているため、高強度の紫外線レーザに対しても長寿命を示します。

ガウシアン拡散板は、部分的コヒーレント光源を特定の強度分布に変換します。特に、UV波長で高パルスエネルギおよび高平均出力が得られるために、様々な工業および科学分野で使われている、エキシマレーザ，窒素レーザ，半導体レーザと言った高出力レーザに適しています。それらのアプリケーションでは、出力光をガウシアンプロファイルに整形する必要があります。イエナオプティックOS社製CaF2ガウシアン・ジェネレータは、ガウシアンでないビームをはっきりとしたガウシアンなファーフィールド・プロファイルに変換し、DUVレーザの安定性と効率を向上させます。

回折型ビームスプリッタは周期的位相構造を持ち、広がり角，ビーム径，偏光面を保ったまま、入射光を複数の回折光に分けることができます。LIDARやカラー・セパレーション，物質加工，外科手術，計測と言った分野では、ビームスプリッタを使用する事により、エネルギーを効率良く分配し、パフォーマンスを向上させることができます。更に、溶接などの加工では、それぞれの角度と出力比を持った複数の回折光を使うことでよい結果を得られることがあります。イエナオプティックOS社の回折型ビームスプリッタは、一つのレーザ光を、対称性のある複数のビームに効率よく分けます。S偏光とP偏光を分ける偏光ビームスプリッタもご用意できます。

回折型拡散板は、レーザ光を制御された小さな角度で広げ、均一にします。この結果、非常にシャープなエッジを持つトップハット型またはカスタムな形状の均一なファーフィールド強度分布が得られます。 従来の拡散板に比べ、高効率で低散乱かつシャープなエッジのプロファイルが得られます。必要な強度分布をより長い距離で得るための単一光学素子としても使えます。プロファイルのサイズは、距離と拡散角から得られます。回折型拡散板と集光レンズの組み合わせにより、レンズの焦点面に均一な照明を作る事ができます。このプロファイルのサイズは、レンズの焦点距離と拡散角に依存します。

Fill Fill Factor（開口比）向上用マイクロレンズ・アレイは、焦点面のアレイ光Fill Factorを3倍まで向上させす。ピクセル素子の光感度の無い部分に当たらないように、フォトダイオードの表面に光を集光させます。マイクロレンズ・アレイを使用する事により、フォトダイオードの感度とダイナミックレンジを高める事が出来ます。イエナオプティックOS社は、Fill Factorを向上させて焦点面アレイの性能を高めるような特注マイクロレンズ・アレイの設計を致します。

シャックハルトマン・センサは、コヒーレント光の強度分布と波面をリアルタイムで高い精度で測定します。センサは、マイクロレンズ・アレイのサブアパーチャによって入射波面を複数のビームレットに分割します。それぞれのマイクロレンズは、CCDカメラのディテクタのサブグリッド上に別々に焦点を結びます。そのパターンを分析して、入射波面の光位相を測定します。 天文機器に於ける測定や補償光学系，波面補正，目などで利用されます。シャックハルトマン・センサ用の高空間分解能を持った、独自のマイクロレンズ・アレイをご提供いたします。マイクロレンズ・アレイは、波面の位相深さの大小にあわせて設計できます。

屈折型ホモジナイザは、不均一な複数のマルチモード光を混合する事により、希望のビームシェイプで、洗練された均一な照明を得るための小型レンズアレイです。ホモジナイザは、光源からある距離の特定エリアにおいて、レーザ光のビームシェイプと出力の均一性を必要とするアプリケーションに有効な光学素子です。屈折型ホモジナイザは、高効率で幅広い光源に使用できます。イエナプティックOS社は、四角形，円形，長方形，六角形等の屈折型ホモジナイザを設計・製造致します。

イエナオプティックスOS社は、MEMS（=MicroElectro-Mechanical Systems）デバイスの設計や分析を行うための知識とツールを有しています。2軸のティルトミラーは、多くの産業分野で使われる重要なMEMS技術です。イエナオプティックOS社のティルトミラーにはいくつかの利点があります。一つは、静電的に生じた傾き角は、“オン・オフ”ではなくアナログ的です。二つ目は、ほとんどの競合製品には、ミラー表面に製造上必要な穴がありますが、イエナオプティックOS社の製品には穴がなく、すべての入射光線が効率よく反射されます。最後三つ目は、低電圧で動作することです。最大角3°を傾けるのに合計で70V以下、それより小さい傾きには更に低い電圧しか必要ありません。

回折型ビーム・シェイパは、空間的コヒーレントなレーザの強度および位相分布を、より制御しやすいものに修正します。普通、これらの光学素子は、不均一なガウシアンビーム・プロファイルを修正することによって、全体の効率や性能が改善される様なレーザアプリケーションにおいて、エネルギー分布を最適化する為に使用されます。イエナオプティックOS社は、均一なトップハット，円形，長方形，或いは特注の形状のプロフィルを生成する、高性能ビーム・シェイパを設計致します。これらのビーム・シェイパは、単一横モードのビーム用に設計されていますが、マルチモードレーザ用の屈折型あるいは回折型デフューザやホモジナイザの設計も可能です。

イエナップティックOS社の回折型非球面レンズは、非球面な波面を生成するフラットな光学部品です。高品質な屈折型非球面レンズを製造するのに必要な、精密干渉試験用ヌルレンズにも使われます。光学システムにおいて、ユニークな収差補正特性を持った非球面素子としても使用されます。

イエナオプティックOS社は、近赤外（NIR）から長波長赤外（LWIR）まで、独自のマイクロオプティクスをご提供いたします。 優れたグレースケール技術を有しており、屈折型（マイクロレンズ・アレイ）および回折型（ビームシェイパ、ビームスプリッタ等）のどちらのマイクロオプティクスも製作可能です。Ge，Si，GaP，GaAs，ZnSe，ZnS，サファイアなど様々な材料で製作が可能なため、サイズダウンや軽量化、そして性能の向上に繋がります。IRが透過可能な材料を加工する技術を有するため、赤外線イメージングや赤外線レーザシステムにおいて、マイクロオプティクスの全ての利点を活用することができます。

多くの固体レーザ，半導体レーザ，ガスレーザ，二倍波・三倍波レーザはシングル横モードレーザで、通常ガウシアンビームプロファイルを持っており、均一な照明を必要とする用途では利用しづらい光源です。しかし、イエナオプティックOS社の回折型ラインジェネレータ・オプティクス（LGO）と使えば、ガウシアンレーザビームを均一のトップハット・ラインプロファイルに変換できます。ガウシアンビームからご希望のトップハット・ラインへの変換は、LGO素子一つで行う事ができ、他の光学部品を必要としません。

ハイブリッド・マイクロオプティカル・エレメントは、平面オプティクス，コーティング技術，精密機械加工に、いつくかのマイクロオプティクス機能を与えます。最小サイズで複合的な光学的機能と、最高精度および安定性を実現します。ハイブリッド・マイクロオプティカル・エレメントのモノリシックデザインにより、取り付ける物質や取り付け精度で悩む必要がなくなります。さらに、異なった材料の組み込みが必要なアプリケーションでは、追加部品の正確なアセンブリが可能です。

高効率な誘電体反射型グレーティングは、超短パルスレーザシステムのパルス圧縮においてキーとなる光学素子です。最先端の金コート反射型グレーティングは効率や吸収率の点で問題がある一方、誘電体パルス圧縮用反射型グレーティングは吸収率が低いため、小さなエリアに高出力光を照射することができ、全体をコンパクトにすることができます。誘電体反射型PCG（パルス圧縮用グレーティング）は、97%以上の効率を示します。高ダメージ閾値と優れた熱安定性を持つ既存の透過型PCGを補完します。グレーティングは、表面に透過型グレーティングをもつ石英マスクに多層膜ミラーをつけたものです。多層膜ミラーは、高反射率が得られる異なる材料の層から成ります。回折は、最上層のSiO2層にある横方向の周期的な溝によって得られます。グレーティングは、高分解能e光線リソグラフィおよびドライエッチングによって作られます。

CaF₂UVレーザビームの均一化は難題です。色々なアプリケーションで、高出力密度における任意のビームプロファイルから、滑らかなビームプロファイルの生成が必要な場合があります。特にUVレーザ、例えばエキシマレーザやLD励起THGレーザ等、高パルス・エネルギーをもつレーザにおいて、工業向けの高い耐久性を維持しつつ、均質な強度分布を生成する為には、CaF2のマイクロオプティクス・アレイが最も適しています。イエナオプティックスOS社製CaF2マイクロレンズ・アレイにより、殆どのビームプロファイルを、洗練された再現可能なトップハット・ファーフィールド・プロファイルに整形する事が可能です。